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保湿成分 ヒアルロン酸配合 UVカット下地クリーム
(2021年3月1日発売)
CO・OP UVベースクリームD
30g
JANコード:4902220127313
特徴
保湿成分ヒアルロン酸を配合した、しっとりのびの良いクリームタイプのUV化粧下地です。乾燥からお肌を守りながら、しっかり紫外線をカットします。汗・皮脂に強い。SPF30 PA+++。
使い方
化粧水や乳液をしっかりとお肌になじませた後、適量(パール粒1個分)を指先にとり、少量ずつお顔全体にムラなくのばしてください。落とすときはクレンジング料をお使いください。
訴求成分
セラミド様(保湿成分:ヒドロキシプロピルビスパルミタミドMEA)コーティングパウダー、カミツレ花エキス(保湿成分)配合
紫外線吸収剤・鉱物油・パラベン(防腐剤)・タール系色素 無配合、無香料
- グリセリン【水性基剤】
- エタノール【水性基剤】
- 水【水性基剤】
- BG【水性基剤】
- ペンチレングリコール【水性基剤】
- トコフェロール 【製品の抗酸化剤】
- 酸化鉄【着色剤】
- 硫酸Ba【着色剤】
- PEG-9ジメチコン【乳化剤】
- セチルPEG/PPG-10/1ジメチコン【乳化剤】
- セスキイソステアリン酸ソルビタン【乳化剤】
- 塩化Na【粘度調整剤】
- (ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー【粘度調整剤】
- アルミナ【粉体基剤】
- 水酸化Al【粉体基剤】
- シリカ【粉体基剤】
- マイカ【粉体基剤】
- ポリメチルシルセスキオキサン【粉体基剤】
- タルク【粉体基剤】
- アルギニン【pH調整剤】
- ヒドロキシプロピルビスパルミタミドMEA【保湿剤】
- ヒアルロン酸Na【保湿剤】
- カミツレ花エキス【保湿剤】
- カプリロイルグリシン【保湿剤】
- フェノキシエタノール【防腐剤】
- ハイドロゲンジメチコン【油性基剤】
- シクロペンタシロキサン【油性基剤】
- ジメチコン【油性基剤】
- シメチコン【油性基剤】
- イソステアリン酸【油性基剤】
- ステアリン酸【油性基剤】
- スクワラン【油性基剤】
- 酸化亜鉛【紫外線散乱剤】
- 酸化チタン【紫外線散乱剤】